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建筑功能:工业建筑
高度类别:多层建筑
结构形式:其他结构
建筑面积:271262.38㎡
地上层数:5层
图纸深度:施工图
图纸张数:360张
设计时间:2015
负荷等级:二级
防雷等级:第二类
火灾保护分级:二级
接地方式:TN-S
项目位置:湖北
强电设计:
供配电系统,配变电所,低压配电,电气照明,建筑物防雷,接地安全
一、文件说明
本图纸为武汉华星光电技术有限公司,第6代LTPS(OXIDE)LCD/AMOLED显示面板生产线项目电气施工图。
二、项目概述
1.项目地址:湖北武汉东湖新技术开发区光谷左岭产业园显示产业基地
2.项目总资金:本项目总投资160亿元人民币,其中建设投资为145亿元,流动资金为15亿元。
3.项目用地面积:该项目总净用地为60万平方米(合900亩)。其中本期工程(一期工程)用地面积约36.68万平方米(合550.2亩),一期工程总建筑面积为44.3万平米。
三、设计范围
1.01~08号建筑,10~23号建筑的供电系统设计;
2.全厂各栋号的防雷及接地系统设计,9号建筑除外。
四、图纸展示
武汉华星光电厂房效果图
设计范围
440V接线图
供电系统图
配电箱接线图
设备布置平面图
生产厂房电力布线图
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